| สารเคมีสำหรับบอยเลอร์์ (Boiler Water Treatment Chemical)  | 
          
            | 
 | 
              ADV-1000     สารเคมีป้องกันตะกรัน เป็นสารเคมีประเภทฟอสเฟตที่ผสมพร้อมใช้งาน
 โดยมีวัตถุประสงค์เพื่อใช้ในการป้องกันการเกิดตะกรัน
 บนผิวถ่ายเทความร้อนของหม้อไอน้ำ   ทั้งชนิดหลอด
 น้ำ 
                ้ำและท่อไฟ 
                (WATER  TUBE  AND  FIRE
 TUBE  BOILER)  
                ที่มีความดันต่ำ ๆ ไปจนถึง
 หม้อไอน้
                
                ำความดันสูง
 |  | ADV-2000   สารเคมีป้องกันสนิมเป็นสารป้องกันการกัดกร่อนในระบบหม้อไอน้ำ   โดยมีหน้าที่ในการกำจัดออกซิเจน 
              ซึ่งเป็นสาเหตุหลักในการทำให้เกิดสนิม   ช่วยลดและป้องกันการเกิดสนิม
 ในหม้อไอน้ำ  สามารถเกิดปฏิกิริยากับ
              ออกซิเจน
 ที่ละลายอยู่ใน
              บอยเลอร์ได้อย่างรวดเร็ว   มีความ
 ปลอดภัยต่อสิ่งแวดล้อม  และสะดวกในการใช้งาน
 | 
          
            |  | ADV-2010   สารเคมีป้องกันสนิม เป็นสารเคมีที่ใช้ในการป้องกันสนิมในหม้อไอน้ำ
              อันเนื่องจากออกซิเจนในน้ำป้อนหม้อไอน้ำ
 โดยการทำปฎิกิริยารวมตัวกับก๊าซออกซิเจนและ
 คงสภาพเป็นสารละลายน้ำอยู่ใน
              หม้อไอน้ำ
 สามารถใช้ได้ดีกับระบบผลิตไอน้ำ           ที่ใช้ไอน้ำใน
 ขบวนการผลิตอาหาร   
              การย้อมสีที่ใช้ระบบไอน้ำอบ
 เพื่อออกซิไดซ์ให้สีคงตัว
              และขบวนการใช้ไอน้ำอื่น ๆ
 ที่ต้องการไอน้ำซึ่งปราศจากไอสารเคมีปนเปื้อน
 รวมทั้งผลผลิตที่เกิดจากปฏิกิริยาเคมี   ของ ADV-2010
 คงสภาพเป็นสารละลายน้ำอยู่ในหม้อไอน้ำ
 และจะระบายออกทิ้งด้วยการ BLOW  DOWN   สารเคมีไม่สามารถระเหยปะปนไปกับไอน้ำได้   จึงสามารถใช้
              ในขบวนการผลิตไอน้ำดังกล่าวข้างต้น
 ได้โดย
              ปลอดภัย
 |  | ADV-2020  สารเคมีป้องกันสนิมเป็นสารเคมีที่ผลิตขึ้นมาจากสารเคมีพื้นฐานจำพวกไฮดราซีน (Hydrazine)   ซึ่งมีตัวเร่งปฏิกิริยากำจัด
 ออกซิเจน   และสารเคมีปรับสภาพความเป็นกรด - ด่าง    ซึ่งระเหยได้จำพวกเอมีน  สามารถใช้ในการป้องกัน
 การกัดกร่อน  และสนิมแดงในระบบน้ำป้อนหม้อไอน้ำ  ทั้งชนิดความดันต่ำไปจนถึง หม้อไอน้ำที่มีความดันสูง
 | 
          
            | สารเคมีสำหรับระบบหล่อเย็น (Cooling   Water Treatment Chemical) | 
          
            |  | ADV-3000   สารเคมีกำจัดตะกรันและสนิม เป็นสารเคมีที่ได้รับการพัฒนาขึ้นมาเพื่อใช้ในการ
 ป้องกันตะกรันและสนิม   ในระบบหล่อเย็นหรือ
 ระบบหล่อเย็นแบบเปิด(Open Recirculating Cooling
 System)     ซึ่งมักก่อปัญหาบนผิวถ่ายเทความร้อนของระบบ   โดยมีส่วนผสมหลักเป็นสารเคมีในตระกูลโพลีฟอสเฟต
 โฟสโฟเนต และอะครีลิค  โคโพลีเมอร์  ในอัตราส่วนผสม
 ที่พอเหมาะ    ซึ่งอาศัยโพลีเมอร์เทคโนโลยี
 |  | 
              ADV-4000  สารเคมีป้องกันตะไคร่และแบคทีเรียเป็นสารเคมีที่ให้ประสิทธิภาพสูงในการกำจัดตะไคร่น้ำและแบคทีเรียต่าง ๆ ที่สะสมอยู่ 
                ภายในคูลลิ่ง   
                ซึ่งเป็น
 สาเหตุให้เกิดตะกอนเน่าเหม็น  และเกิดการอุดตันใน
 ท่อ  ทำให้การถ่ายเทความร้อนลดลง  ส่งผลให้เครื่องจักร
 ทำงานหนักขึ้น   เกิดการสิ้นเปลืองพลังงาน
                มากกว่าปกติ
 และอายุการใช้งานสั้นลง เสียค่าใช้จ่ายในการซ่อมแซม
 และบำรุงรักษาในระยะยาวเพิ่มขึ้น
 | 
          
            | สารเคมีสำหรับระบบชิลเลอร์ (Chiller   Water Treatment Chemical) | 
          
            |  | ี ADV-5000  สารเคมีป้องกันสนิมเป็นสารเคมีที่ใช้สำหรับป้องกันสนิมในระบบหล่อเย็น
 แบบปิด (Chiller  System)  เนื่องจากมาชิ้นส่วนที่ทำด้วย
 โลหะชนิดต่าง ๆ   ประกอบรวมกับเป็นระบบชิลเลอร์  เช่น
 เหล็ก, เหล็กกล้า, ทองแดง, ทองเหลืองและอลูมิเนียม
 เป็นต้น  ดังนั้นจึงจำเป็นต้องใช้สารกำจัดสนิมที่มีส่วน
 ผสมพิเศษ  เพื่อให้สามารถป้องกันการกัดกร่อนโลหะ
 ทุกชนิด ได้ดี
 |  |  | 
          
            | 
              สารเคมีสำหรับงานล้างระบบ (Cleaning Treatment Chemical) | 
          
            |  | ADV-7000  สารเคมีล้างตะกรันการกำจัดตะกรันโดยวิธีเคาะหรือขูดออกอาจทำอันตราย
 ต่อเครื่องจักรได้  มีวิธีง่ายและสะดวกกว่า คือ การใช้สาร
 เคมีล้างตะกรัน   ADV-7000 แก้ปัญหาดังกล่าวได้ผลดีเยี่ยม
 การทำงานของ  ADV-7000 สามารถละลายตะกรันทุกชนิด (ยกเว้นพวกไขมัน และน้ำมัน)  ทำให้ตะกรันถูกกำจัดออก
 ได้โดยง่าย  และ ADV-7000 ยังมีส่วนผสมของน้ำยาป้องกัน
 การสึกกร่อน  และเป็นสนิมของผิวโลหะ  จึงทำให้การทำงาน
 ของน้ำยาได้ผลอย่างเต็มที่  โดยไม่เป็นอันตรายต่อผิวโลหะ
 
 
 
 |  | ADV-8000  สารเคมีล้างเอนกประสงค์ ไม่ทำปฏิกิริยากับอลูมิเนียมหรือเหล็ก จึงไม่เป็น
 อันตรายต่อเครื่องจักร และปลอดภัยต่อชิ้นส่วน
 ของระบบระบายความร้อน เช่น Fan Coil
 
 |